Analise de alta precisão das variaveis cristalograficas de um filme fino

AUTOR(ES)

Sheila Maria Del Nery

DATA DE PUBLICAÇÃO

1979

RESUMO

The thickness af a thin film is measured in this wark with a relative error of 0.4% which for the analysed film is of the order of one atomic layer. The precision attained is then much better than in previous reported work in the literature. Also the quadratic errors in the Fourier Transforms and in the intensities in the deconvaluted profile are much better than usual. Expressions are deduced for the errors in the transforms and in the final intensities which are shown to be independent of the individual points where they are calculated. A new and simple method to analyse the variation of the film thickness was developped. In the case analysed it was found that the thickness was uniform over about 99.5% of the surface with the above cited precision.

ASSUNTO(S)

filmes finos cristais - propriedades fisicas

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