Contribuição ao estudo do eletrodeposito de niquel preto
AUTOR(ES)
Annette Gorenstein
DATA DE PUBLICAÇÃO
1986
RESUMO
Este trabalho é uma contribuição ao estudo da superfície seletiva eletrodepositada conhecida como níquel preto. São discutidas as reações químicas/eletroquímicas envolvidas no processo de formação do filme. A voltametria de dissolução anódina de depósitos metálicos de níquel e zinco é também apresentada. A caracterização química e microestrutural foi obtida através da técnica de Espectroscopia Auger, difração de raio x e microscopia eletrônica de transmissão associada à difração de elétrons. O filme eletrodepositado contém Ni, Zn, S e possivelmente oxigênio. A estrutura é inomogênia, contendo partículas possivelmente metálicas. A seletividade espectral é associada ao caráter inomogênio do filme
ASSUNTO(S)
ACESSO AO ARTIGO
http://libdigi.unicamp.br/document/?code=vtls000051992Documentos Relacionados
- Contribuição ao estudo do bromato de niquel hexahidratado pela ressonancia paramagnetica eletronica
- Uma contribuição ao estudo do escalonamento de ciclones
- Contribuição ao estudo do controle automatico de geração
- Uma contribuição ao estudo do processo de brunimento
- Contribuição ao estudo do espalhamento Brillouin
