SILÍCIO NO DESENVOLVIMENTO IN VITRO DA ORQUÍDEA Cattleya forbesii
AUTOR(ES)
COLOMBO, RONAN CARLOS, FAVETTA, VANESSA, FARIA, RICARDO TADEU DE, ANDRADE, FELIPE ARANHA DE, MELEM, VANDERLI MARINO
FONTE
Rev. Caatinga
DATA DE PUBLICAÇÃO
2016-03
RESUMO
RESUMO: A adição de silício (Si) aos meios de cultura tem apontado melhor desenvolvimento das plântulas cultivadas in vitro e redução das perdas durante a fase de aclimatização. Objetivou-se avaliar cinco concentrações de SiO2 (0,0; 0,5; 1,0; 1,5 e 2,0 g·L−1) em meio de cultura MS sobre o crescimento in vitro da orquídea Cattleya forbesii. Aos 200 dias, avaliou-se as variáveis: número de raízes, comprimento médio do sistema radicular, área foliar, número de folhas e de brotos, altura da parte aérea, massa fresca e seca de raízes e de parte aérea, conteúdo de água das raízes e da parte aérea, e pH final dos meios de cultura. Para a maioria das variáveis avaliadas observou-se decréscimo em função do aumento da concentração de Si, reduzindo o desenvolvimento vegetativo in vitro da C. forbesii. Além disso, detectou-se acúmulo de Si nos tecidos foliares por meio da microscopia eletrônica de varredura, confirmando a absorção deste pelas plântulas. Para o crescimento in vitro da espécie estudada, a fonte e concentrações de Si testadas, não apresentaram efeito benéfico.
ASSUNTO(S)
micropropagação meio de cultura sílica amorfa.
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