Fotorresinas Positivas
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1. Medidas dos índices de refração de materiais fotossensíveis utilizando o método de Abelès
Fotorresina positiva AZ-1518 é um exemplo de material fotossensível amplamente usado em processos litográficos em microeletrônica e em óptica para fabricação de componente de relevo. Esta fotorresina é formada pelo composto fotoativo (PAC) e de uma matriz, que é uma resina espessa denominada novolak. Quando exposta à radiação ultravioleta, reaç�
Rev. Bras. Ensino Fís.. Publicado em: 2013-09
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2. Estudo da decomposição fotoquímica por exposição à luz UV de fotorresinas positivas
Positive photoresists are widely used in lithographic process in microelectronics and in optics for the fabrication of relief components. With the aim of identifying molecular modifications among positive photoresists unexposed and previously exposed to ultraviolet light the electron stimulated ion desorption technique coupled to time-of-flight mass spectrom
Química Nova. Publicado em: 2012
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3. Projeto e confecção de componentes opticos difrativos de alta frequencia espacial
O tema deste trabalho de mestrado é o desenvolvimento de componentes ópticos difrativos em relevo de alta frequência espacial. Este desenvolvimento pode ser dividido em três etapas: projeto, processo de gravação das microestruturas em relevo e caracterização do componente. O projeto é realizado utilizando-se programas que resolvem numericamente as e
Publicado em: 1999
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4. Gravação holografica de padrões periodicos de alta frequencia espacial para a confecção de dispositivos opticos
O resultado básico deste trabalho é a construção de uma montagem holográfica estabilizada altamente eficiente, que permite o controle da fase relativa entre o padrão de interferência e um holograma de referência. A alta sensibilidade do sistema permite a utilização de um efeito de modulação residual em materiais fotossensíveis durante o registro
Publicado em: 1987