Litografia Por Feixe De Eletrons
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1. Transferência de spin em nanopilares e nanocontatos magnéticos
Neste trabalho serão apresentados resultados recentes de estudos de magnetorresistência gigante (GMR), na configuração corrente perpendicular ao plano, e de transferência de spin (TS) em multicamadas magnéticas. Para tal foram desenvolvidos sistemas de análise magnetorresistiva, assim como a preparação de amostras. O ponto fundamental para este tipo
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 2012
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2. Transporte elétrico em nanoestruturas de grafeno:: influência da funcionalização, da geometria e da dopagem do substrato
Neste trabalho, nós fabricamos e investigamos as propriedades de transporte elétrico de dispositivos de nanofitas, pontos quânticos e fitas de grafeno. Estudamos o efeito de se dopar as bordas de nanoestruturas de grafeno, como nanofitas e pontos quânticos, por meio da funcionalização dessas regiões com moléculas específicas. O efeito da dopagem é
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 25/03/2011
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3. Desenvolvimento de processo litográfico tri-dimensional para aplicação em microóptica integrada. / Development of three-dimensional lithographic process for application in integrated micro-optics.
O presente trabalho tem como objetivo desenvolver um processo de fabricação de elementos micro-ópticos utilizando-se litografia por feixe de elétrons, empregando o resiste SU-8, negativo e amplificado quimicamente, sobre substrato de Si. Para tanto, é realizado o estudo dos parâmetros do efeito de proximidade a, b e h para se modelar e controlar os efe
Publicado em: 2010
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4. Modificação de superfície de diamante utilizando plasma e caracterização por kelvin force microscopy / Modification of diamont surface using plasma and characterization by kelvin force microscopy
Neste trabalho nós produzimos e caracterizamos superfícies de diamante policristalino com áreas seletivas oxidadas e fluoradas a partir de superfícies originalmente hidrogenadas, usando um canhão de plasma para bombardear a superfície do diamante. A técnica que foi utilizada para a produção de filmes de diamante com superfícies hidrogenadas foi a d
Publicado em: 2010
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5. Implantação iônica de baixa energia em polímero para desenvolvimento de camadas compósitas nanoestruturadas condutoras litografáveis. / Low energy ion implantation into polymers to develop conductive composite layers for lithography.
Electronics using polymers instead of silicon is a recent research area with promising economic perspectives. Polymer with metallic particles composites presents interesting electrical, magnetic and optical properties and they have been produced by a broad variety of techniques. Metal ion implantation using plasma is one of the used methods to obtain conduct
Publicado em: 2010
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6. Caracterização elétrica de junções p-n de PbTe para aplicação em detectores de infravermelho. / Electrical characterization of PbTe p-n junctions for applicarion in infrared detectors.
Este trabalho visa à caracterização elétrica de junções p-n de PbTe para aplicação em detectores fotovoltaicos na faixa do infravermelho médio. Para isto, uma série de junções p-n foi crescida com sucesso por epitaxia de feixe molecular sobre substratos de fluoreto de bário. Nesta série, a concentração de buracos p ficou mantida fixa em 1017
Publicado em: 2004
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7. Corrosão por plasma para tecnologias CMOS e microssistemas
Esta tese apresenta os resultados do desenvolvimento e da otimização de uma tecnologia própria na área de fabricação de dispositivos CMOS e Microssistemas, realizados no Centro de Componentes Semicondutores da UNICAMP, pretendendo desenvolver processos em uma das técnicas mais críticas da microfabricação: corrosão de materiais por plasmas. Neste t
Publicado em: 2003
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8. Estudo de Litografia por Feixe de Elétrons para a Produção de Padrões Sobre Substratos de Eletroestruturas / Study of electron beam lithografhy for patterns production on semiconductor heterostructrucres substrata.
Este trabalho trata do estudo das condições para a produção de padrões em escala nano e micrométricas, utilizando o processo de litografia eletrônica. A parte inicial refere-se ao estudo do elétron-resiste de PMMA incluindo a preparação da solução, o recobrimento do substrato e a secagem. Em seguida, são apresentados estudos sobre o funcionament
Publicado em: 1996
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9. Sistema de fotorrepetição para fabricação de circuitos integrados
A litografia faz parte de um conjunto de técnicas usadas na fabricação de circuitos integrados. As técnicas litográficas são genericamente englobadas nas denominadas litografia óptica e litografia por feixe de elétrons, das quais a primeira é ainda a mais difundida e, melhor estabelecida. A litografia óptica prevê o uso de máscaras (matrizes fina
Publicado em: 1982