Vaporizacao Em Ambiente Magnetron Reativo Dc
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1. Elaboration of nitride thin films by reactive sputtering
O objetivo desse artigo, em um primeiro momento, é uma melhor compreensão da vaporização em um ambiente magnetron reativo DC e as suas conseqüências, tais como o efeito da histeresis e o processo de instabilidade. A segunda parte desse trabalho está dedicada a um estudo de caso: o nitreto de alumínio. Filmes finos de nitreto de alumínio foram deposi
Rem: Revista Escola de Minas. Publicado em: 2006-06